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反应釜污垢的清洗方法

反应釜污垢的清洗方法 一、化学清洗 首先要知道设备内的垢样成分，是取样分析。确定污垢成分后先做试验，选用清洗剂同时通过试验确定对设备金属不会造成腐蚀。然后通过现场架设临时循环装置将清洗液在设备内循环流动，洗去污垢。 二、机械清洗 采用高压清洗装置，将150-200MPa的高压水通过喷头冲刷污垢。 两种方法各有利弊，化学清洗用工少，清洗时间短，清洗彻底，但是可能会造成设备被腐蚀；机械清洗不会对设备产生腐蚀，对硬垢可以有效清洗，但是用时长、劳动强度大。因此化学清洗应用在污垢较软、薄的工况，机械清洗应用在污垢硬、厚的工况。

间歇釜式反应器的优点是什么?

间歇釜式反应器 间歇釜式反应器或称间歇釜 操作灵活，易于适应不同操作条件和产品品种，适用于小批量、多品种、反应时间较长的产品生产。间歇釜的缺点是：需有装料和卸料等辅助操作，产品质量也不易稳定。但有些反应过程，如一些发酵反应和聚合反应，实现连续生产尚有困难，至今还采用间歇釜。 间歇操作反应器系将原料按一定配比一次加入反应器，待反应达到一定要求后，一次卸出物料。连续操作反应器系连续加入原料，连续排出反应产物。当操作达到定态时，反应器内任何位置上物料的组成、温度等状态参数不随时间而变化。半连续操作反应器也称为半间歇操作反应器，介于上述两者之间，通常是将一种反应物一次加入，然后连续加入另一种反应物。反应达到一定要求后，停止操作并卸出物料。 间歇反应器的优点是设备简单，同一设备可用于生产多种产品，尤其适合于、染料等工业部门小批量、多品种的生产。另外，间歇反应器中不存在物料的返混，对大多数反应有利。缺点是需要装卸料、清洗等辅助工序，产品质量不易稳定。

反应釜的安装要求装置环境

反应釜的安装要求 装置环境 高压釜应放置在符合防爆要求的高压操作室内，在装置多台高压釜时，应分开放置，每两台之间应有可靠的防爆高墙隔开，每间操作室均有直接通向室外或通道的出口，当存在介质时，应保证设备地点，通风较好。 釜盖的安装及密封 釜体和釜盖采用锥面和圆弧面线接触密封形式，拧紧主螺栓使之相互压紧达到良好的密封，在拧紧主螺栓时，不得超过拧紧力矩80～120NM范围，以防密封面被挤坯和超负荷磨损，密封面要特别加以爱护。 装釜盖时，要使釜盖上下缓慢起动、防止釜体、釜盖之间密封面相互撞击。拧紧主螺母，必须对称分多次逐步加力拧紧，用力要均匀，达到良好的密封效果。

搅拌轴顶部插入式反应釜的密封问题

搅拌轴顶部插入式反应釜的密封问题 1、由于密封件放置在釜的上部和气相空间中（液相仅在材料充满时），由釜的机械密封件密封的介质主要是气体而不是液体。因此，从密封端面的工作状态来看，与泵密封相比，润滑条件差，并且容易处于干摩擦状态，导致端面磨损，因此一定的润滑冷却方法是需要。同时，由于强烈的气体泄漏，除了水压试验之外，还需要诸如石墨环的具有大空隙率的材料来增加气密性试验。 2、由于工艺条件的变化，反应器的压力和温度通常不恒定并且经常波动。因此，设计应确保压力要求（高压操作，低压操作和真空操作）也能满足使用要求。 3、将顶部插入搅拌轴的垂直安装中，并且通常以悬臂状态搅拌下端。由于纵横比大，不易确保加工和安装精度，并且容易发生大的挠曲。并且在操作过程中，搅拌叶片不均匀;液面太低或有故障；喂料不均匀，或反应控制不好；压力和温度波动；压力和温度的变化引起搅拌轴和壶体的变形；搅拌轴突然的速度变化或导致聚合物粘度上升的温度下降会加剧搅拌轴的振动。 为了解决这个问题，密封件设置有相对不振动的工作环境，使得密封操作稳定。通常，中间轴承和底部轴承用于限制运动，以便小化轴摆动对密封性能的影响。因此，水壶的机械密封对于轴的径向跳动的要求比泵的机械密封要低得多。当轴直径为65mm时，径向跳动<0.5mm;当轴直径>65mm时，径向跳动<1mm;同时，设计应考虑移动环和静环有更好的浮动和跟进。 4、水壶机械密封通常用于大直径和低速度。随着科学研究和生产的发展，反应器设备趋于庞大。釜的容积不断增加，搅拌轴直径超过300mm。但是，搅拌轴的转速通常较低，一般低于200·300r/min，大使用范围为500r/min。当直径大时，密封环容易变形，并且难以确保密封端面的平坦度等。当直径大时，硬密封环通常使用表面复合材料。